電解式測(cè)厚儀哪家好-fischer理想選擇的詳細(xì)資料：

電解式測(cè)厚儀哪家好-fischer理想選擇

電解測(cè)厚儀哪家好？電解測(cè)厚儀是什么，電解測(cè)厚儀就是應(yīng)用電解破壞原理測(cè)量鍍層或多層鍍層厚度的儀器，也叫庫倫法測(cè)厚儀，作為測(cè)量鍍層厚度簡(jiǎn)單的方法之一，庫侖法可以用于各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當(dāng)允許破壞性測(cè)量時(shí)，它提供了一個(gè)比X射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 應(yīng)用 強(qiáng)大并且用戶友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗(yàn)。

簡(jiǎn)介：
CouloScope CMS STEP在電鍍行業(yè)中，對(duì)多層鎳鍍層中各自層的同時(shí)的厚度和電極電位的測(cè)定變成了一個(gè)越來越重要的需求。**的多鍍層組成為不含硫的半光亮鎳層和含硫的光亮鎳層。這兩個(gè)鎳層間足夠的電位差導(dǎo)致了光亮鎳層優(yōu)先腐蝕于半光亮鎳層。這種次序也就延遲了整個(gè)鎳層的穿透速度，并且給了基材相對(duì)于單鍍層更好的防腐保護(hù)。 COULOSCOPE CMS STEP多層鎳測(cè)厚儀器根據(jù)庫侖電量分析法進(jìn)行測(cè)量，符合 DIN EN ISO 2177、50022 和 ASTM B764標(biāo)準(zhǔn)
通過電位差測(cè)試儀器可以簡(jiǎn)便的對(duì)鎳鍍層之間的電化學(xué)的電位差進(jìn)行測(cè)量。 可以用于測(cè)量銅基層、鎳多層涂層和鉻涂層的厚度。
COULOSCOPE® CMS STEP可以通過定位于電位-時(shí)間表中相關(guān)部分的雙指針來方便地測(cè)出鍍層厚度和電位差。這個(gè)圖表能夠外部保存或通過RS232轉(zhuǎn)換到PC電腦中。

很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用CMS2簡(jiǎn)單快速地測(cè)量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層提供了準(zhǔn)確的測(cè)量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm內(nèi)， 很多材料不需要預(yù)設(shè)定；基材組成和幾何形狀對(duì)于測(cè)量都是無關(guān)緊要的。
常見的應(yīng)用之一就是測(cè)量線路板上剩余的純錫，以確?？珊感?。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu在鐵或者塑料（ABS）基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè)方法進(jìn)行測(cè)量。
測(cè)量原理 這個(gè)系列儀器根據(jù)DIN EN ISO 2177標(biāo)準(zhǔn)的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過在控制電流條件下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過程。所載入的電流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。
測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測(cè)量面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來決定。對(duì)不同的金屬采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。 電解過程由COULSCOPE儀器的電子部分控制， 用一個(gè)泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電解液充分利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。

STEP Test是在允許腐蝕的情況下用來同時(shí)測(cè)量電位差和多層鎳的鍍層厚度，該方法是這個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)。 應(yīng)用
多層鎳鍍層的品質(zhì)控制需要能在電鍍完成后立刻檢查厚度和電位差的儀器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是為這個(gè)目的而設(shè)計(jì)的，它操作簡(jiǎn)單，參比電極使用起來也不復(fù)雜，非常適合電鍍工廠苛刻環(huán)境下的這種應(yīng)用

電鍍鎳層用作電解保護(hù)和提高機(jī)器表面屬性，如硬度等。 特別是汽車工業(yè)中，電鍍鎳部件在防腐蝕方面要滿足很高的要求。單一鎳層無法滿足該要求。因此，目前正在開發(fā)非常復(fù)雜的鍍層系統(tǒng)，其中包含兩層、三層甚至四層鍍鎳層，還有鉻或銅鍍層。
電解式測(cè)厚儀哪家好-fischer理想選擇

測(cè)量原理 STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemi- cal Potential determination)（同時(shí)測(cè)量鍍層厚度和化學(xué)電位差）的簡(jiǎn)寫，是已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化很久的測(cè)量方法。它可以同時(shí)測(cè)量各鍍層厚度和多層鎳系統(tǒng)中兩層之間的電化學(xué)電位差。 厚度測(cè)量時(shí)用庫侖法來測(cè)量，電位差通過外面鍍一層AgCl的銀參比電極來測(cè)量。電壓曲線可以顯示在屏幕上，鍍層厚度和電位差可以在圖上讀出。 為了獲得可以比較的穩(wěn)定電位差測(cè)量結(jié)果，參比電極到工件的距離必須始終保持不變。這個(gè)問題通過特殊的測(cè)量槽得到解決。

銀參比電極被設(shè)計(jì)成一個(gè)圓錐形的環(huán)狀電極，并作為測(cè)量槽底部的外殼與測(cè)量槽蓋連接。測(cè)量槽的設(shè)計(jì)保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。

特性：
吸引人的設(shè)計(jì)，大的液晶顯示器和清晰安排的鍵盤。
操作簡(jiǎn)單，菜單指引的操作提示。
電解區(qū)域直徑從0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。
大約100個(gè)預(yù)先定義好的應(yīng)用程式適用于大多數(shù)的金屬鍍層，包括測(cè)量線材。

特征：
標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177 ； ASTM B504
大屏幕點(diǎn)陣液晶顯示屏，可顯示文字與圖形：126 * 70 mm  
可設(shè)置和儲(chǔ)存：50個(gè)應(yīng)用程式、600個(gè)數(shù)據(jù)組；3 000個(gè)數(shù)據(jù)
統(tǒng)計(jì)：平均值、zui大值、zui小值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、測(cè)量次數(shù)、Cp、Cpk 和直方圖
使用多層菜單和軟鍵，使操作更方便
RS232 接口可通過電纜和傳輸軟件將數(shù)據(jù)傳到 PC
模擬輸出： 0 ～ -18V
輸入阻抗： ＞ 2 KΩ
工作溫度： 10 ℃ ～ 40 ℃
儀器重量： 6 kg
電源： AC 220 V ，50-60 Hz；zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸： 350W * 140H * 200D  mm

測(cè)量臺(tái)：

測(cè)量臺(tái)V18有1個(gè)新的測(cè)量槽設(shè)計(jì)。由于在每次測(cè)量后有一個(gè)泵會(huì)自動(dòng)地排出電解液至儲(chǔ)液箱內(nèi)，也就不再需要手動(dòng)清空測(cè)量槽了，一次注滿測(cè)量槽就可以多次測(cè)量。
測(cè)量臺(tái)V24允許靈活定位小工件。
測(cè)量臺(tái)V26主要為簡(jiǎn)單和平面形狀的物體而設(shè)計(jì)。
測(cè)量臺(tái)V27主要為在線材上測(cè)量而設(shè)計(jì)。